Proses sputter terbukti sangat berguna untuk pengendapan film biokeramik tipis berdasarkan sistem CaP karena teknik ini punya kemampuan untuk menyediakan kontrol yang lebih baik terhadap properti pelasian dan peningkatan adhesi antara substrat dan lapisan.

Pemindaian dengan mikroskop elektron menunjukkan film deposit punya struktur yang padat dan seragam. Fosfat kalsium dilaporkan berkisar antara 1,5 sampai 2,6.

Disolusi in vitro tampaknya ditentukan oleh derajat kristalinitas lapisan. Kelemahan dari teknik pelapisan sputter adalah memakan waktu yang lama, menghasilkan pelapis amorf, dan rasio Ca / P pada lapisan lebih tinggi daripada rasio HA sintetis.

Ketebalan lapisan hidroksiapatit yang dihasilkan oleh proses sputter bervariasi antara 0,5 sampai 3,0 pm. Dengan pemrosesan sputter, kekasaran permukaan lapisan bergantung pada kekasaran substrat. Rata-rata kekasaran aritmetika (R_a) untuk hidroksiapatit yang dilapisi oleh proses sputter adalah 3,0 ± 1,2 μm.

Dalam suatu penelitian yang memakai implant dengan perlakuan penyemburan partikel TiO₂  dan sputter CaP, lapisan sputter CaP menunjukkan peningkatan fiksasi permulaan dan respon penyembuhan ketika ditanam ke dalam tulang trabekular kambing.

Dalam suatu penelitian yang terpisah, peneliti membandingkan lapisan sputter CaP dengan lapisan HA yang disemprot plasma. Kekuatan antarmuka pungkasan teramati untuk implant yang dilapis dengan sputter CaP tidak berbeda signifikan dengan implant yang dilapis HA dan disemprot plasma setelah 12 minggu terhitung dari hari pemasangan implan. Hal ini menyarankan bahwa lapisan sputter CaP sebanding dengan lapisan HA yang disemprot plasma dalam hubungannya dengan kekuatan antarmuka pungkasan.

Hasil penelitian tersebut di atas didukung oleh temuan histologi yang mengindikasikan ketiadaan perbedaan statistik dalam prakara persentase panjang kontak tulang di antara implant yang dilapis sputter CaP dan implant berlapis HA yang disemprot plasma pada 12 minggu setelah pemasangan implan.

Di samping itu, implant titanium yang dilapisi dengan sputter kalsium fosfat telah menunjukkan torsi pelepasan yang lebih tinggi bila dibandingkan dengan kontrol implant titanium tanpa lapisan setelah 3 minggu masa penyembuhan. Perbedaan kekuatan torsi pelepasan ini tidak lagi jelas setelah 12 minggu masa penyembuhan.