Kapasitas implant menanggung beban
Kapasitas implant menanggung beban dipengaruhi oleh beberapa faktor, termasuk jumlah implant, ukuran implant, angulasi dan tatanan posisi implant, dan kualitas antarmuka tulang-implant.
Jumlah implant gigi yang dipakai akan memengaruhi kapasitas menanggung beban. Pada dasawarsa 1980an dan purwa 1990an, banyak kuadran posterior rahang atas direstorasi dengan satu atau dua implant, dan pada beberapa orang pasien, dua implant dipakai untuk menopang restorasi dengan tiga atau empat unit dental. Dalam banyak kasus, pola penyusutan tulang yang pilah teramati segera setelah pembebanan yang marakken penyusutan tulang dan kegagalan implant. Implant tambahan tampak signifikan meningkatkan biomekanika gigi palsu parsial cekat yang didukung implant ini.
Secara historis, penggunaan implant panjang (> 7 mm) disarankan sebagai weton dari laporan yang menunjukkan tingginya tingkat kegagalan implant pendek (≤7 mm). Logic menyarankan bahwa beban biomekanis di sekitar implant pendek marakken susut tulang yang lebih tinggi relatif terhadap panjang implant dan tingkat kegagalan implant yang lebih tinggi.
Namun, Pierrisnard et al. menunjukkan bahwa beban implant maksimum meningkat seiring dengan panjang implant penjangkaran bikortikal. Mereka juga menyatakan bahwa kekakuan penjangkaran implant pendek yang rendah bisa mengurangi beban mekanikal ke implant karena fleksibilitas tulang.
Dengan menggunakan finite element analysis (FEA), Pierrisnard, et al menunjukkan bahwa panjang implant yang lebih panjang tidak berpengaruh positif pada transfer stress ke implant, tapi diameter implant yang lebih lebar mengurangi intensitas stress sepanjang panjang implant. Penelitian-penelitian lain juga mengamati bahwa implant yang lebih lebar alih-alih implant yang lebih panjang menunjukkan nilai stress yang lebih rendah bagi keseluruhan sistem. Ini menyarankan bahwa penggunaan implant pendek yang lebar bisa meningkatkan kapasitas implant dan prostesis implant dalam menanggung beban.
Dalam tinjauan literatur sistematik yang cukup baru, Atieh et al menyimpulkan bahwa sintasan implant pendek (≤8.5 mm) yang dipakai di rahang edentula parsial posterior itu cukup tinggi dan tidak berkaitan dengan desain dan lebar permukaan implant.