Metode-metode persiapan lapisan CaP (Kalsium Fosfat) pada implant punya karakteristik masing-masing. Berikut ini karakteristik-karakteristik setiap metode yang telah berhasil dikenali. 

1. Pengendapan semprotan plasma (spraying plasma deposition, deposisi SPD)
   Karakteristik:
   1. Suhu tinggi > 1000 ° C
   2. Dapat direproduksi
   3. Tingkat deposisi tinggi
   4. Atmosfer: Udara, vakum (populer), tekanan rendah
2. Pengendapan sputter magnetron (magnetron sputtering deposition, MSD)
   Karakteristik:
   1. Tingkat deposisi tinggi
   2. Substrat logam dan non-logam
   3. DC dan RF
3. Pengendapan dibantu berkas ion (ion beam-assisted deposition, IBAD)
   Karakteristik:
   1. Lapisannya amorf, dan perlu dipanaskan lebih lanjut
   2. Kristalinitas final bergantung pada waktu, suhu dan jumlah uap air yang ada selama pelapisan.
   3. Tingkat deposisi rendah dibanding PS
4. Pengendapan laser berdenyut (pulsed laser deposition, PLD)
   Karakteristik:
   1. Tingkat deposisi cepat
   2. Bahan metastabil dan multi komponen
5. Penekanan isostatik panas (hot isostatic pressing, HIP)
   Karakteristik:
   1. Suhu dan tekanan tinggi
6. Metode sol-gel (sol-gel method)
   Karakteristik:
   
   1. Kombinasi dengan proses pelapisan yang berbeda, seperti lapisan dip dan spinning setelah sintering
   2. Substrat dengan geometri yang kompleks
   3. Substrat vertikal dan non-logam
   4. Film tipis
7. Proses biomimetik (biomimetic pro cess)
   Karakteristik:
   1. Suhu rendah
   2. Berbagai macem substrat dapat menginduksi pembentukan HA, seperti implant logam, biokeramik, polimer
8. Pengendapan elektrokimia (electrochemical deposition)
   Karakteristik:
   1. Mengkonduksi substrat
   2. Partikel yang dapat diberi muatan listrik
   3. Suhu rendah
9. Pengendapan elektroforetik (electrophoretic deposition)
   Karakteristik:
   1. Mengkonduksi substrat
   2. Partikel yang dapat diberi muatan listrik
   3. Suhu rendah
10. Oksidasi busur mikro (Micro-Arc Oxidation, MAO)
    Karakteristik:
    1. Suhu kamar
    2. Substrat dengan geometri kompleks
    3. Oksidasi elektrolit
11. Pirolisis semprotan ultrasonik (Ultrasonic spray pyrolysis)
    Karakteristik:
    1. Suhu kamar
    2. Semprotan kontinyu
    3. Semprotan berdenyut