10. Karakteristik permukaan implan

Kualitas permukaan menentukan reaksi jaringan terhadap implan. Ada tiga kategori properti permukaan implan:

1. Properti mekanis
   Properti mekanis permukaan implant berkaitan dengan potensi tekanan pada permukaan yang bisa menghasilkan peningkatan kecepatan korosi dan aus yang berhubungan dengan tingkat kekerasan materi implan. Aus berkaitan dengan kekuatan materi dan juga kekasaran permukaan. Salah satu teknik untuk mengurangi aus adalah dengan implantasi ion.
   Wear is related to the strength of the material, but also to the surface roughness. One technique to minimize the wear is ion implantation.
2. Properti topografis
   Topografi permukaan berkaitan dengan tingkat kekasaran permukaan dan orientasi ketidakberaturan permukaan. Komposisi kimiawi permukaan implant pada permukaan implant terbukti memengaruhi perlekatan sel awal. Hal ini memicu minat besar pada modifikasi permukaan implant sebagai cara untuk mempercepat oseointegrasi.
3. Properti fisiokimia
   Properti fisiokimia menunjuk ke faktor-faktor yang berkaitan dengan energi permukaan dan muatan ion. Permukaan dengan energi yang tinggi punya daya tarik-menarik untuk terjadinya adsorpsi. Sehingga, implan gigi dengan energi permukaan yang tinggi bisa menghasilkan oseointegrasi yang lebih kuat. Cara praktis untuk mengukur energi permukaan adalah pengukuran sudut kontak. Metode ini juga menentukan apakah permukaan bersifat hidofobik atau hidrofilik.

 11. Kekasaran permukaan implan

Kekasaran permukaan dibagi menjadi 4 kategori berdasarkan skala fitur yang diusulkan oleh Wennerberg dan Albrektsson.

• Permukaan halus (nilai Sa <0,5 μm)
• Permukaan kasar minimal (nilai Sa 0,5 sampai < 1,0 μm)
• Permukaan kasar sedang (nilai Sa 1,0 sampai <2,0 μm)
• Permukaan kasar (nilai Sa ≥ 2,0 μm).

Kekasaran permukaan sedang berkaitan dengan geometri implan. Tipe kekasaran ini memungkinkan pertumbuhan tulang ke dalam dan saling mengunci secara mekanis tidak lama setelah pemasangan implan. Kontak tulang-implan dan penghapusan daya torsi menyarankan peningkatan stabilitas sekunder dibandingkan dengan permukaan halus dan permukaan kasar minimal.

Ada dua teori utama yang berkaitan dengan pengaruh mikrotopografi permukaan implant pada pembentukan jaringan peri-implan, yaitu:

1. energi permukaan
2. regangan distorsi

Semakin kecil ukuran bulir permukaan kasar, semakin tinggi energi permukaan, sehingga lebih menguntungkan untuk terjadinya perlekatan sel ke implan.

Di samping kelebihan-kelebihannya, kekasaran permukaan implant juga punya kekurangan, yaitu kebocoran ion dan risiko periimplantitis.